In der Photovoltaikherstellung hat die Reinigung der Wafer einen direkten Einfluss auf die anschließende Beschichtung und die elektrische Leistung.Traditionelle Architekturen, die hauptsächlich auf lokalen E/Ausgängen basieren, haben oft Probleme, wenn mehr Überwachungspunkte, Ferndiagnostik oder Prozessoptimierung erforderlich sind.

In einem Projekt wurde ein Waferreinigungssystem mit einer Omron-PLC-Prozesslösung sowie einer RB-Fern-E/A-Lösung entwickelt.1×AI und 1×AO ermöglichen eine zentrale Überwachung und Kontrolle des Maschinenzustands, Wasserdruck und chemische Konzentration.

Digitale Eingänge und Ausgänge, Antriebe, Sicherheitstüren, Niveaus und Alarme, analoge Kanäle, die Druck-, Durchfluss- oder Konzentrationssignale ablesen,während analoge Ausgänge Ventile und Pumpen steuern, um den Reinigungsprozess innerhalb eines definierten Betriebsfensters zu halten.

Mit dem RB-Fernsteuerungs-E/A kann der Ausrüstungshersteller:

• Konsolidieren von Sensoren und Aktoren, die um die Maschine verteilt in einheitliche Fernstationen verteilt sind;

• Reservierungen der E/A-Kapazität für zukünftige Überwachungspunkte oder Rezepturoptimierungen ohne größere Neuverkablung;

• Die Daten werden an höhere Systeme zur Trendanalyse und Ursachenuntersuchung übermittelt, um die Reinigungskonsistenz zu verbessern.

Dies ermöglicht es PV-Herstellern, ihre Waferreinigungsabschnitte auf einen datengetriebeneren Modus zu aktualisieren, ohne ihre Haupt-PLC-Plattform zu ändern.